CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗室型等離子體清洗設備， 傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性?xún)r(jià)比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗室小批量中試生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監測工藝參數狀態(tài)，20 個(gè)配方程序，工藝數據可存儲追溯。

◆  PLC 工控機控制整個(gè)清洗過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

◆  石英真空艙，真空管路系統采用 316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。

◆  采用質(zhì)量流量計，實(shí)現對氣體輸入精準控制，改變傳統浮子流量計控制氣體流量不準確問(wèn)題。

◆  HEPA 高效過(guò)濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

◆  60 度傾角操作界面設計，符合人體功能學(xué)，操作方便，界面友好。

◆  頂置真空艙，上開(kāi)蓋設計，下壓式鉸鏈開(kāi)關(guān)方式，開(kāi)關(guān)蓋方便。

◆  采用花灑式多孔進(jìn)氣方式，改變傳統等離子清洗機單孔進(jìn)氣不均勻問(wèn)題。

◆  上置式 360 度自由水平取放樣品托盤(pán)設計，符合人體功能學(xué)，操作更方便。

◆  有效清洗面積大，可清洗最大直徑 8 吋硅片。

◆  安全保護，艙門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)關(guān)閉電源。

技術(shù)參數：